最近国家知识产权局公布了HUAWEI的一项新专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”(CN115343915A)。此项专利与EUV光刻机有关。这对HUAWEI来说无疑是一利好消息，外界也开始纷纷猜测，HUAWEI这是要开始自研光刻机了以摆脱对ASML的依赖。
众所周知，由于美国的禁令，让HUAWEI的Kirin处理器受挫。因此HUAWEI入局光刻机可以说是一个好消息，如若成功，猜测后续HUAWEI会推进处理器的研发和设计。
目前的芯片和光刻机的制造能力，要比世界先进水平落后一大截，以芯片制造工艺为例子，目前国际最先进的台积电已经能够量产5nm制程的芯片，而最先进的中芯国际只能量产14nm制程的芯片，中间差了3代的差距。
尽管HUAWEI很早就意识到自研芯片的重要性，斥巨资成立海思半导体芯片研发部门，但是若芯片若无法被量产出来，也是纸上谈兵。如今关于光刻机相关专利的出炉，也许对芯片自研带来新的进展。
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